半導體新創分子尼奧（Quantum NIL）以奈米壓印微影（NIL）為核心，打造可在多種易脆晶圓材料上量產 25 奈米結構的彈性代工平台，並於 SEMICON Taiwan 2026 首日登台發表主題演講。公司同步布局超穎透鏡切入 AI 光通訊，並規劃 2026 年第 4 季啟動上看 1 億美元的新一輪募資，是半導體新創領域值得關注的未上市標的。
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分子尼奥（Quantum NIL）專注於非矽材料與先進材料的奈米級製程開發，打造以奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）為核心的複合式奈米製造代工平台，可在多樣化、易脆性的晶圓材料上量產最小尺寸達25奈米的奈米結構。相較於傳統矽製造技術，可提供更具彈性與客製化的製造服務選擇，協助新創科技團隊突破材料、結構與製程上的開發限制。
執行長林仲相表示，目前平台製造服務方案涵蓋先進光子、通訊雷射光柵、超穎透鏡、量子光學、生醫晶片（Biochip），及AI驅動設計奈米結構等新創應用領域。分子尼奧透過一站式奈米壓印微影技術，自建平台協助各領域技術開發者降低先進製程開發門檻，無須自行建置完整的奈米製造基礎設施，即可進行異質材料與先進奈米元件的開發與量產。
SEMICON Taiwan 2026首日，林仲相在Silicon startups stage發表「奈米壓印微影驅動的彈性複合式晶圓代工平台」主題演講，說明分子尼奥如何透過奈米壓印微影技術，串聯國內外新創技術、先進材料與高階製造資源，協助下一代光電、量子、生醫及AI化奈米技術，加速從概念驗證走向實用產品與規模化生產。
分子尼奥預計2026年第4季啟動新一輪募資，規模上看1億美元。林仲相指出，1億美元募資對新創公司而言看似龐大，但國外半導體製造新創發展初期，往往需要投入數十億美金，仍屬相對精實保守。台灣創投市場對新興科技的價值評估較審慎，國際市場對前瞻性科技與創新商業模式的資金投入更積極，加上國際資金相對充沛，因此將同步探詢國外新創投資市場。
目前該公司已委託國際知名會計師事務所進行市場前景調查，針對產業鏈、潛在市場規模及商業發展潛力進行分析，未來將依據相關調查結果提出更具可信度的企業潛力估值。分子尼奥致力以奈米壓印微影打破傳統製造的材料與製程限制，建立連結創新技術與高階製造的新型奈米製造服務生態系，推動下一世代科技加速從技術創新走向商業化。林仲相強調，奈米壓印微影在多方面的巨大應用及突破產業現況的潛力，已受到關鍵企業關注。（翁永全）
分子尼奧 瞄準AI光通訊新商機
去年第三季起，光通訊為科技圈最熱的話題，許多業者看好AI產業前景，紛紛藉由光通訊切入AI產業鏈，包括雷射、Micro LED及傳統LCD面板廠等企業都搭上光通訊列車。
分子尼奧為台灣探尋量子產業商業化的先行者，執行長林仲相帶領團隊積極推動超穎介面（Metasurface）元件應用發展。他指出，AI伺服器的短距離通訊，「光進銅退」成為新技術迭代的關鍵角色。Micro LED與超穎介面衍生的超穎透鏡（Metalens），在光通訊領域將扮演關鍵角色，不在顯示技術，而是數據傳輸。
光通訊的大好前景，從輝達今年3月宣布分別投入Lumentum與Coherent兩大光通訊大廠各20億美元，進一步得到證實。黃仁勳的一舉一動都引起業界關注，輝達也投資多家量子運算新創企業，被視為算力業界最大的投資金主。深入來看，兩家美系光通訊大廠鎖定日本兩大基板廠的產能，輝達此一動作明顯意在綁定通訊光源材料的關鍵資源。
3月24日至25日，林仲相參加英國在台辦事處舉辦的英國-臺灣關鍵礦產韌性高峰會，討論關鍵礦產的需求趨勢和分析全球及各國對關鍵礦產的策略。指出地緣政治緊張和關鍵資源武器化，稀土及關鍵礦產的出口受到嚴格管制，進而對砷化鎵、磷化銦等基板所需的銦、鎵等關鍵材料的穩定供應造成顯著影響。矽光子、光通信及先進顯示技術的競爭，為今年Touch Taiwan的核心議題。
明（9）日林仲相也應邀參加Metalens技術及應用論壇，擔任演講嘉賓。
異質整合型半導體材料工程的前景同樣被看好，分子尼奧定位為前期研發與小量製造，加速關鍵技術專利布局。林仲相3月初前往美國波士頓進行商務考察，與哈佛大學教授George M. Whitesides再次會面。Whitesides教授是Soft Lithography技術開創者，也是中研院院長翁啟惠博士後的指導教授。
此次會議深入探討奈米壓印技術在生物晶片的應用，也規劃延攬這位重量級學者擔任公司最高層顧問。
分子尼奧開創商業模式：量子&數位孿生技術
AI算力規模已成為國力的象徵，相關半導體供應鏈因此升級為國家安全層級的重要產業，成為相關企業必修的政治經濟學課程。從晶片製造、載板、散熱到機櫃，這些製造技術構成AI半導體生態的核心。儘管AI泡沫化風險尚未明顯顯現，市場走向仍充滿張力，未來產業發展是否將進入哥本哈根詮釋(Copenhagen Interpretation)式思維模式，正待新一代的企業家引導領航。
分子尼奧（Quantum NIL）執行長林仲相觀察，量子技術日益成熟，預期將逐步取代既有矽製程的高算力市場；近期國際局勢劇烈變動，更引發各界密切關注是否對AI半導體產業的持續性發展帶來新變局。
量子產業正逐步架構成為具AI半導體影響力的巨人，應用市場朝大者恆大、寡頭壟斷發展，對有志於此的中小企業及新創，壓力更大。分子尼奧專注於奈米壓印技術應用，發展自有核心技術並整合多項特有技術，積極開拓第三類半導體與超穎材料代工市場。分子尼奧以破壞式創新為目標，投入量子產業上游研發，並架構自有PDK製程設計套件，提供客戶完整製程解決方案，「以詮釋量子的思維，預見量子產業未來的生態」。
執行長林仲相長期深耕化合物半導體產業，對全球產業發展與國際環境變化具有敏銳觀察。他指出，在當前瞬息萬變的科技與產業格局中，決策思維必須以多模態視角與時俱進，即使台灣AI半導體產業具壓倒式優勢，仍需謹慎應對當前所面臨的挑戰。
台灣在先進半導體製造領域具領先優勢，但關鍵軟硬體仍由美國企業主導，整體產業發展與國際供應鏈緊密鏈結，量子科技的商業化發展是否也將遵循此脈絡，仍需密切觀察。林仲相認為，台灣在量子科技的研究能力與發展環境有很大的提升空間，其中，台灣量子科學界領軍人物鴻海董事張慶瑞教授，去年獲選聯合國教科文組織『量子百強』，對台灣量子科技的規畫發展而言是一大鼓舞。
因應未來發展，林仲相持續深化與美國合作鏈結，去年代表分子尼奧參加美國Select USA系列活動，並與台灣菁英企業赴美進行交流與對接。今年，他有望再次參與，並計劃3月赴波士頓，拜會MIT和哈佛大學George Whitesides教授，推動量子技術與生技產業的前瞻發展。
美國大力推動重振製造業，林仲相認為，數位孿生（Digital Twin）技術平台將成為新世代高效率的製造核心，隨著AI技術在製造業的內化與創新，美國有望彎道超車。台灣在製造業長期累積的大數據資產，在建立數位孿生具有關鍵價值，結合分子尼奧打造的彈性代工製造平台，共同推動創新的製造趨勢。他強調，多模態思考與國際政經趨勢的深度解讀，對新創公司發展十分重要，從『量子政治學』到『哥本哈根詮釋』侃侃而談，展現對趨勢開創者在決策邏輯與思維的深入理解。
公司簡介
分子尼奧科技(Quantum NIL)團隊開發出領先世界的奈米壓印微影製程技術(NIL)，並成功建置用於量產的NIL生產線。自2007年以來，我們成功地將奈米壓印製程技術應用於高產量的LED晶圓、高硬度的藍寶石基板與易碎的磷化銦雷射晶圓上。透過公司團隊開發出獨特的複合式奈米壓印製程，
我們更將奈米壓印技術整合到多個產業的標準量產製程中，並提供各種內置奈米結構的晶圓產品。基於數十年奈米壓印製程技術的經驗，我們已能夠在各式的晶圓材料上，製造出高度客製化的精密微細結構，並持續努力提升我們的複合式奈米壓印技術，進而達到未來在量子光電領域多元化的需求。
【產業觀察：分子尼奧 Quantum NIL】
‧ 公司定位：執行長林仲相長期深耕化合物半導體，以奈米壓印微影（NIL）打造複合式奈米製造代工平台，定位前期研發與小量製造、加速關鍵技術專利布局；核心團隊自 2007 年起累積 NIL 量產經驗。
‧ SEMICON 亮相：於 SEMICON Taiwan 2026 首日 Silicon startups stage 發表「奈米壓印微影驅動的彈性複合式晶圓代工平台」主題演講，說明如何串聯國內外新創、先進材料與高階製造資源。
‧ 募資規劃：預計 2026 年第 4 季啟動新一輪募資、規模上看 1 億美元，並同步探詢國外投資市場；已委託國際會計師事務所進行市場前景調查，作為後續估值依據（募資規模與時程為公司規劃，以公司公告為準）。
‧ 光通訊題材：公司看好 AI 伺服器短距離通訊「光進銅退」，超穎透鏡將在數據傳輸扮演關鍵角色；產業面上，輝達今年 3 月宣布分別投資光通訊大廠 Lumentum 與 Coherent 各 20 億美元，凸顯光通訊熱度（此為產業動態，與分子尼奧無投資關係）。
‧ 國際鏈結：曾參與美國 Select USA 系列活動、出席英國－臺灣關鍵礦產韌性高峰會；3 月赴波士頓與 Soft Lithography 技術開創者、哈佛大學 George M. Whitesides 教授再次會面，探討奈米壓印於生物晶片的應用，並規劃延攬其擔任公司顧問（規劃中，以公司公告為準）。
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公司基本資料
| 統一編號 | 93591064 |
| 登記現況 | 核准設立 「查詢最新營業狀況請至 財政部稅務入口網 」 |
| 股權狀況 | 僑外資 |
| 公司名稱 | 分子尼奧科技股份有限公司 Google搜尋 (出進口廠商英文名稱：Quantum NIL Corporation) 「國際貿易署廠商英文名稱查詢(限經營出進口或買賣業務者)」 |
| 章程所訂外文公司名稱 | Quantum NIL Corporation |
| 資本總額(元) | 200,000,000 |
| 實收資本額(元) | 200,000,000 |
| 每股金額(元) | 10 |
| 已發行股份總數(股) | 20,000,000 |
| 代表人姓名 | 林仲相 |
| 公司所在地 | 新竹科學園區苗栗縣竹南鎮科中路11號4樓 電子地圖 同地址登記現況為核准設立之公司家數: 1 |
| 登記機關 | 國家科學及技術委員會新竹科學園區管理局 |
| 核准設立日期 | 113年01月24日 |
| 最後核准變更日期 | 114年12月15日 |
| 複數表決權特別股 | 無 |
| 對於特定事項具否決權特別股 | 無 |
| 特別股股東被選為董事、監察人之 禁止或限制或當選一定名額之權利 | 無 |
| 所營事業資料 | CC01080 電子零組件製造業 CE01030 光學儀器製造業 CQ01010 模具製造業 F401010 國際貿易業 F601010 智慧財產權業 研究、設計、開發、製造及銷售下列產品或服務： 1.奈米壓印微影製程代工服務。 2.超穎光學元件設計服務。 3.提供上述產品之軟硬體應用設計、測試、維修及技術諮詢服務。 4.兼營與公司業務相關之進出口貿易業務。 |
