暉盛科技 - 暉盛科技ICP-RIE 訂單放量成長

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暉盛科技ICP-RIE 訂單放量成長
暉盛科技近年挾優越電漿技術開發能力，不僅成功打進美系半導體大廠供應鏈，並取得國際通訊大廠合作機會，且在晶圓代工廠對於晶圓級封裝、IC載版封裝、micro LED需求帶動下，非等向性的高密度反應式離子蝕刻電漿（ICP-RIE）詢問度大幅提高，也讓暉盛科技成為半導體前段製程不可或缺的夥伴，不僅訂單放量成長，輔以歐洲及亞太地區訂單加成，整體營收再創新高。

暉盛科技表示，全球吹起綠能永續風潮，公司長期逐步建構ESG藍圖，不僅利用自身電漿技術基礎，將甲烷脫氫，使其成為潔淨氫能及活性碳，並運用在電動車領域，亦推出微波火炬電漿（Microwave Torch）技術，無電極式微波電漿可適用各型反應物（氧化性、還原性、惰性），能將PFC、N2O、VOCs等有害氣體無害化，並可應用於碳氫化合物轉化及脫碳，產出無碳或低碳燃料。

而對應次世代印刷電路板朝向薄型化、細線路及高產出需求，暉盛科技不僅提高自動化生產及晶圓級無塵環境等級要求，同時也要達到減少人員作業的頻率，其中以減少人員碰板為主，因人員上下板就可能造成板損，如折傷、刮傷、板污等。

暉盛科技在原有的批次性電漿去膠渣設備（Bath Type Plasma Desmear Machine）上，也開發出自動化上下料板的設備（Panel Auto Loading/Unloading Machine）對應客戶需求，且因應整體產線自動化生產需求，更開發可直接接在鍍銅、防焊、化金及化錫等產線的線性生產電漿去膠渣機（In-line Plasma Desmear Machine），設備已獲台、歐、美、日及大陸等地載板大廠訂單，且具有近80%市占率。

在半導體先進封裝製程下，業界對重度蝕刻需求攀升，尤其以非等向性的高密度反應式離子蝕刻電漿（ICP-RIE）詢問度最為明顯，該設備具有高密度電漿源與反應性離子蝕刻雙重特性，蝕刻均勻度達90%以上，可用於金屬、介電質、低介電材料蝕刻，更可客製化處理面積，最大可處理基板尺寸可達660X660mm2，堪稱業界最大規格。


暉盛電漿設備 打進美國大廠供應鏈
暉盛科技憑藉優越的電漿技術以及新製程開發能力，相關設備不僅打進美系半導體大廠供應鏈，並取得國際通訊大廠合作機會，亦搶進美國最大手機品牌相關供應鏈，更與日系代理商共同建立合作平台，拿下數家日系印刷電路板大廠訂單，同時，這兩年來隨著5G、AI、HPC、互聯網、新能源車╱自駕車市場的增長，造成ABF載板需求的大爆發，也推升公司整體營運動能，營收再創新高。

該公司經理邱冠陸指出，對應次世代印刷電路板朝向薄型化、細線路及高產出需求，不僅提高自動化生產以及晶圓級無塵環境等級的要求，同時也要達到減少人員作業的頻率（有人就會發生失誤），其中以減少人員碰板為主，因為人員上下板就可能會造成各種板損，如折傷、刮傷、板污等。所以基於以上需求，暉盛科技在原有的批次性電漿去膠渣設備（Bath Type Plasma Desmear Machine）上，開發出自動化上下料板的設備（Panel Auto Loading ╱ Unloading Machine），而因應整體產線自動化生產的需求，更開發出可以直接接在鍍銅、防焊、化金及化錫等產線上的線性生產電漿去膠渣機（In- line Plasma Desmear Machine）。以上設備目前已獲台、歐、美、日及大陸等地各載板大廠的訂單。

另外，在孔徑小於30um的高階載板上，就很難直接以雷射進行鑽孔，所以就此應用，暉盛科技開發出印刷電路板非等向性高密度反應式離子電漿蝕刻設備（PCB ICP-RIE Ｍachine）取代鐳射鑽孔，而暉盛所開發出的PCB ICP-RIE設備具有90%以上的電漿蝕刻均勻性、小於10μm的蝕刻孔徑能力以及最大660mm x 660mm的板材處理面積，堪稱業界最大規格，此目前也已接獲國內載板大廠的訂單以及海、內外其他大廠的高度詢問。

暉盛科技經理邱冠陸強調，印刷電路板市場需求目前在高密度、高整合、高頻高速、高效能運算應用的持續湧出下，新材料以及新技術的開發需求也不斷的被提升。未來PCB產業所用的電漿設備，不論是藉由具高濃度自由基、低溫的間接式微波電漿（Indirect Ｍicrowave Plasma）或是採用非等向性之高密度反應式離子電漿蝕刻（ICP-RIE），暉盛科技都有相對應的解決設備並提供全方位的解決方案，來替客戶創造最大的利益，同時成為各先進產業中，長期且值得信賴的技術提供者。


暉盛科技 邁向電漿製程設備主流
電漿設備大廠--暉盛科技（NEMS），挾優越電漿製程開發能力，近年來布局產業有成，不僅成功成為美系半導體及行動裝置大廠供應鏈，取得與美系通訊大廠合作機會，而且歐洲及亞洲區訂單持續放量，帶動公司近年營收動能。

暉盛科技總經理許嘉元博士表示，在半導體先進封裝製程，暉盛掌握FOWLP扇出型晶圓級封裝關鍵技術，可提供FOWLP清洗解決方案，成功開發出新式晶背聚合物（Back Side Polymer, BSP）電漿清除解決方案，克服傳統工藝問題與限制。

因應5G浪潮，暉盛在既有電漿技術基礎下，可針對各式5G材料（LCP、PFA、PTFE、ABF）發展高速、高均勻性、低溫製程的捲對捲式電漿去膠渣設備、微細線路之非等向性電漿去膠渣設備，以及5G通訊的屏下指紋辨識電漿極化設備，目前手上已接獲5G大廠訂單。

許嘉元博士指出，目前產業的自動化生產已逐漸提升為智慧生產，包括符合工業4.0的設計框架，提升到可遠端控制及數據收集，暉盛所推出的電漿設備，可符合全自動化產線需求。

在安規上，不僅獲取TUV認證，在機械設計及電控設計上，亦符合IEC及SEMI等規範。連續式設計可串接上下游，支援標準介面及通訊協議，包含SEMI E84、SMEMA，在控制及資料收集方面可與MES／CIM連線進行Full-Control，擁有多種通訊協定可接續各產業CIM系統，更符合智慧製造的工業4.0未來，可望成為下一波電漿製程設備主流。

許嘉元博士指出，由於近幾年暉盛內化軟實力，與日系代理商-日立先端公司緊密合作，成功拿下數家日系軟板、IC載板超級大廠的訂單，日立先端公司更進步一從代理商角色轉為投資者，有助未來日本市場開發，進而進軍全球。

因應去化手中訂單，暉盛在台南科技工業區T-J Park台日園區中，投資興建2,000坪營運大樓，預計明（2021）年初啟用，可全面投產。


公司簡介
暉盛科技股份有限公司掌握特殊優越的技術及堅強的研發團隊，係以研發先進電漿技術為主軸，以尖端技術服務為宗旨，提供高效能工業級表面處理解決方案為目標。

技術經營團隊自1999年創立以來，先後開發出高密度感應耦合式電漿（ICP, Inductively Coupling Plasma）與常壓電漿（Atmospheric Pressure Plasma）為主之多項電漿技術與專利，並成功推出各式真空/常壓電漿設備與鍍膜方法，這些產品之應用範圍舉凡各式電子領域外，更逐漸應用於各式民生工業及生醫領域。

暉盛科技，臺灣尖端科技電漿設備的領導廠商，長期深耕臺灣及大中華地區半導體、印刷電路板及光電產業等領域；近幾年更積極地投入日本、美國及歐洲的市場開發，期許為兩岸三地、日本及歐美的中外客戶，提供最先進且即時的電漿技術與產品服務。

具備全方位的電漿技術，從設備研發、設計、製造到產品行銷及技術支援，暉盛科技皆擁有高度的整合性與自主性。因應工業產品微細化趨勢及環保訴求，目前本公司主力設備聚焦於電漿表面處理之乾式設備，可針對材料進行表面清潔(Cleaning)、表面改質(Modification)、表面蝕刻(Etching)，甚至對於特殊高分子材料進行鑽孔製程(Drilling)。

公司基本資料

統一編號	79979184   訂閱
公司狀況	核准設立  「查詢最新營業狀況請至 財政部稅務入口網 」
公司名稱	暉盛科技股份有限公司  Google搜尋  (出進口廠商英文名稱：NANO ELECTRONICS AND MICRO SYSTEM TECHNOLOGIES, INC.) 「國貿局廠商英文名稱查詢(限經營出進口或買賣業務者)」
章程所訂外文公司名稱
資本總額(元)	280,000,000
實收資本額(元)	228,311,100
代表人姓名	宋俊毅
公司所在地	臺南市南區新義路7號之1一樓  電子地圖
登記機關	臺南市政府
核准設立日期	091年06月11日
最後核准變更日期	108年08月28日
複數表決權特別股	無
對於特定事項具否決權特別股	無
特別股股東被選為董事、監察人之禁止或限制或當選一定名額之權利      無
所營事業資料	F119010  電子材料批發業 F113010  機械批發業 F113020  電器批發業 F401010  國際貿易業 CA04010  表面處理業 CA03010  熱處理業 CC01990  其他電機及電子機械器材製造業 F107010  漆料、塗料批發業 F113030  精密儀器批發業 F113100  污染防治設備批發業 F113990  其他機械器具批發業 ZZ99999  除許可業務外，得經營法令非禁止或限制之業務