科毅科技布局東南亞 陸續展現成果
因應政府南向政策，科毅科技公司去年開始積極布局東南亞市場， 今年開始陸續展現成果，除了接獲來自新加坡的訂單之外，並與馬來 西亞、越南、菲律賓等客戶建立合作關係，明年可望步入高成長期。
科毅科技表示，該公司以先進半導體製程光罩保護膜之智慧健康監 測技術申請政府科專計畫，目前已獲得桃園市SBIR通過，後續專案執 行將與台科大共同合作開發，此計畫主要訴求以扶植國內廠商提升M ＆ R技術層次，推出MIT半導體設備與提升國際市場競爭力。
此外，科毅科技新品無掩膜雷射直寫曝光機，光機頭已與國內光學 大廠完成100％開發，作業平台也已設計完成，尺寸以配合客戶產品 需求為主。
硬體部分則與上市櫃公司共同合作開發，軟體則由科毅自行開發並 與國內知名學術機構共同開發拼接轉體技術，已進入最後完成階段。
科毅科技指出，該公司所推出的風刀式奈米級光罩除塵機（MCS） 區分成高端型與經濟型，並在110年12月取得發明專利，高端型以國 內外知名晶圓製造公司為銷售目標客戶，包括：TSMC、UMC、Winbon d與ASML均持續交貨中，Intel與中國晶圓大廠也在洽談中。
展望未來，前兩年受疫情影響，全球商業活動緩慢，隨著世界各國 陸續開放，科毅科技陸續接獲各半導體學院的訂單與實驗室相關合作 方案，中國與其他各國也都陸續有不錯的反饋回來，預計明年的營收 將會較前兩年表現亮眼。
科毅曝光機 國內外愛用
半導體設備商科毅科技，開發出國內首台自主開發的方形基板（玻璃、陶瓷）及晶圓全自動「高速」曝光機，每小時200片以上，產品已切入國內外大廠，並陸續導入LED substrate、陶瓷基板、觸控面板等產業，已開始生產，未來將成公司主要成長動能。
該公司提供塗佈機、曝光機、光罩、平行光源、顯影機、蝕刻機等光電、半導體等設備之優良品質，透過獨特的研發製造技術，並設有class 1000等級無塵室。其中無塵室代工部份有一好消息：科毅科技為回饋國內外客戶大量黃光製程（工藝）需求，特開放新客戶第一次黃光製程測試免費。
總經理林憲維表示，公司設備具有高產量、高性價比、高效能、高精度及高自動化等特性，已獲得半導體先進封裝、主被動元件、觸控面板、光電顯示器、背光模組、太陽能、LED等產業採用，產品已能媲美國際水準。
科毅曝光機 強攻光電市場
黃光製程設備及材料專業廠科毅科技，去年喬遷至楊梅新廠後，業績一路走旺，總經理林憲維表示，明年科技業的設備支出保守，但科技產品朝向細線路發展，曝光機的需求不看淡。
科毅科技是少數有能力供應半導體級曝光機的廠商，精度與重覆再現性高，2009年更完成經濟部主導性新產品計畫，開發國內第一台IC封測廠晶圓級全自動曝光機，軟體與系統能力更上層樓。設備獲得國內晶圓封測廠採用，也帶來技術升級、強化系統整合能力的效益。
科毅以半導體業為跳板，邁向光電產業之路，近年在LED、LCD、聚光型太陽能及觸控面板均有顯赫的成績。其以鍍膜、曝光及顯影蝕刻為核心，提供客製化整線設計，深獲觸控面板大廠信賴。
林憲維表示，目前正與金屬中心、工研院及成大合作，研發新一代快速曝光機，能提升觸控面板作業速度一倍以上，為革命性進展。觸控玻璃的線路製作以印刷為主，雖然快速、成本較低，但缺點是最細的線寬也要50微米以上，是黃光製程的十倍以上。高階手機及平板電腦講求更高靈敏性，非用曝光機不可。
曝光機的價格高及作業速度比印刷慢，是最大的罩門。林憲維表示，快速曝光機問世後將逐漸克服改善。值得注意的是，為讓觸控玻璃有更佳的強度，能耐不慎摔落或重壓，部份T/P廠改變製程，將基板切成小片玻璃後再製作線路，也加重對曝光機的需求。
業者分析，印刷製作的觸控面板目前約為黃光曝光的十倍，在細線路趨勢下，以曝光替代印刷的情形將逐年明顯，這令人對於曝光機的中長期市場前景感到振奮。過去科技業總有外國的月亮比較圓的崇洋心理，但科毅以協助客戶製程研發及改善為賣點，成功扭轉了現況。林憲維強調，科毅是少數具備無塵室，可提供設備及製程驗證的業者，成為光電半導體完整技術方案的提供者，是科毅的經營定位。
科毅科技精密曝光機 黃光製程專用 市場評價高
科毅科技為黃光製程設備及材料專業廠，產品有旋轉式光阻塗佈機、烘乾機、光罩對準曝光機、顯影機、蝕刻機、UV平行光源及4~32吋光罩等，另亦供應光罩及光阻劑、顯影、蝕刻等化學藥液，客戶涵蓋半導體、LED、LCD、觸控面板及太陽能領域。
科毅的光阻塗佈機及曝光機有手動及全自動多種機型，可依客戶的製程需求來設計。總經理林憲維表示，許多長期客戶重複下單，但科毅並不是依照之前的機台複製，而會視客戶不同階段的需求予以重新設計，以提升性能及產出，並能超越舊機台。
該公司今年來自LED及觸控面板的曝光機訂單大增，營收將呈倍數成長；年中將搬至楊梅幼獅新廠，設置無塵室及精密加工設備，大幅提升服務能量。林憲維表示，科毅擁有嫻熟關鍵技術及精通組裝的人力，為最大的資產，並深受客戶信賴。該公司除了曝光頭等關鍵元件採用原廠，整機自製率很高，在售後服務提供有力的後盾。
該公司去年進行經濟部科專計劃，可望年中結案並推出新產品。以科毅的規模能夠得到政府上千萬經費挹注，協助先端技術研發，在業界並不多見，其卓越的實力不但提升企業形象，近年也吸引不少業界廠商主動上門。
公司簡介
科毅為追求本公司之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電設備之優良品質，不斷研發製造技術，並設有 class 1000 等級無塵室，使所造之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電設備有更好的測試環境以提供國內外廠商更精密良好的光電儀器。目前提供的設備有：光罩對準曝光機、 UV 平行光源、光阻塗佈機、顯影機、光罩 (4 吋 ~32 吋 ) 。針對市場需求，科毅將持續研發新一代半導體檢測設備，期許成為光電製造設備、光阻類材料的專家。
公司基本資料
| 統一編號 | 27285346 訂閱 |
| 公司狀況 | 核准設立 「查詢最新營業狀況請至 財政部稅務入口網 」 |
| 公司名稱 | 科毅科技股份有限公司 Google搜尋 (出進口廠商英文名稱：M & R NANO TECHNOLOGY CO., LTD.) 「國貿局廠商英文名稱查詢(限經營出進口或買賣業務者)」 |
| 章程所訂外文公司名稱 | M&R NANO TECHNOLOGY CO., LTD |
| 資本總額(元) | 300,000,000 |
| 實收資本額(元) | 138,585,900 |
| 每股金額(元) | 10 |
| 已發行股份總數(股) | 13,858,590 |
| 代表人姓名 | 林憲維 |
| 公司所在地 | 桃園市楊梅區高上里高獅路863巷10號 電子地圖 |
| 登記機關 | 桃園市政府 |
| 核准設立日期 | 093年05月06日 |
| 最後核准變更日期 | 110年07月29日 |
| 複數表決權特別股 | 無 |
| 對於特定事項具否決權特別股 | 無 |
| 特別股股東被選為董事、監察人之禁止或限制或當選一定名額之權利 無 | |
| 所營事業資料 | F113010 機械批發業 F213080 機械器具零售業 F113030 精密儀器批發業 F213040 精密儀器零售業 F119010 電子材料批發業 F219010 電子材料零售業 F401010 國際貿易業 JZ99050 仲介服務業 I103060 管理顧問業 CB01010 機械設備製造業 CE01030 光學儀器製造業 ZZ99999 除許可業務外，得經營法令非禁止或限制之業務 |
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