微影半導體- 微影 打造無毒低碳黃光生產平台

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微影 打造無毒低碳黃光生產平台
半導體技術在現代科技具有舉足輕重地位，市場引領風潮的AI、電動車、5G通訊、低軌衛星等產業都有它的身影，隨著ESG意識抬頭，製程技術朝向更高精度和能源效率發展，作為半導體製程核心技術的光學曝光系統，正面臨新挑戰與機遇。台灣企業微影半導體以創新的LED光源投影曝光機，強調無毒低碳節能的黃光生產平台，為半導體設備本土化開啟嶄新的一頁。

光學曝光系統是半導體產業關鍵技術，這類高階設備一直由國際巨頭艾司摩爾（ASML）主導，台積電在全球領先的主要原因之一，便是擁有ASML的極紫外光（EUV）技術，台灣在此領域的供應能力相對薄弱。微影半導體作為台灣首家能提供光學曝光系統解決方案的公司，成功打破壟斷局面，隨著半導體製程國產化的推進，微影的領先布局將使台灣廠商在未來大幅受益，為本土半導體產業注入強勁競爭力。

目前，半導體產業廣泛使用的光學微影系統涵蓋從早期的汞光源系統到現今的雷射系統（DUV），汞光源系統適用於線寬較寬的應用，常見於印刷電路板（PCB）或成熟製程，但能量效率低、耗電量大，並具有高毒性，對環境與人體健康構成威脅，還存在熱能產生過多，導致曝光機鏡頭出現熱漲冷縮，進而影響製程穩定性。

微影半導體董事長胡德立表示，微影核心技術源自歐美，經過整合與自主研發，成為全球首家成功採用LED光源及投影鏡頭的企業，其步進式微米級投影曝光機具有節能、環保及高性價比特點，為半導體製程帶來革命性變革。微影透過低耗能、無毒性的LED光源，不僅克服汞光源系統的諸多缺陷，也大幅提升製程穩定性和環保性。

微影的技術平台具備自動化多波長LED模型及AI洞察平台，能夠徹底改變半導體黃光生產平台，創新的整合解決方案使晶片製程更加簡單高效，更具環保性。微影的低碳設備製造技術及AI集群工具，讓客戶只需簡單操作，即可完成曝光過程，並自動搜集數據以建立大型語言模型（LLM），從而輕鬆優化製程。這一技術平台能適配多樣化的晶圓廠流程，目標是實現以AI投影步進曝光為核心的LED無毒低碳節能黃光生產平台。

目前，微影已在南科園區與客戶進行樣機測試，並計畫3年內完成募資，2027年掛牌興櫃，產品涵蓋曝光機、塗佈顯影機及檢測機，能夠為黃光段製程提供完整的解決方案。展望未來，微影將繼續推動LED光源技術的創新，不斷完善技術平台，並擴大在國際市場的影響力，引領全球半導體製造的低碳革命。

浴火鳳凰曝光機 微影打造台灣版艾斯摩爾
微影半導體公司(Lithography Semiconductor Equipment Co., LTD)日前在台南科學園區舉行盛大的產品發表會，正式推出全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片解決方案，為全球半導體產業帶來了一場革命性的突破。

這套創新的曝光機，是由微影半導體的創辦人胡德立領導的國際團隊在英國自主研發的成果，經過了多年的努力和挑戰，終於在今年成功地通過了台灣半導體客戶的驗證，並獲得了預約生產的多套訂單。

胡德立在發表會上分享了他的創業故事。他說，他從英國伯明罕大學畢業後，就投入了曝光機的領域，並在台灣多家半導體相關設備公司工作過，學習了各種半導體製程的知識，也認識了許多一線大廠客戶。2007年台積電的研發部門提出了一個特殊的玻璃基材產品，需要用到曝光機，並且承諾如果胡德立能做出台灣曝光機，台積電就會買一百台。雖然最後並未取得這個龐大的訂單，但是這個機會激發了胡德立的夢想，決定成立台灣半導體設備股份有限公司，也就是後來的里梭科技，從曝光機維修翻新服務開始，投入曝光微影系統的製造研發。

胡德立的研發之路一路走來遇到了許多包括資金、人才、技術、政策等方面的問題，甚至還曾經到中國大陸設廠，但卻受到了料想不到的政治阻礙，導致功敗垂成。胡德立說，他在最低潮的時候，仰賴信仰和毅力，在2019年疫情的重重打擊下並沒有放棄，終於在2021年得到了新的資金挹注。胡德立決定到英國設立研發中心，集中所有的研發能量，開始設計製造全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片製造解決方案，並且使用全新的自製微影光學鏡頭。

胡德立的努力最終得到了回報，在2022年底將曝光機原型機運到台灣，並成功地通過了台灣半導體客戶的驗證，取得了驚人的成果。在收獲了客戶預定的多套設備訂單後，胡德立決定今年在台灣成立微影半導體公司，並且宣布將在台灣量產製造曝光機及配套的塗布顯影及檢測設備。

微影半導體的產品發表會吸引了眾多的媒體，政府部門和業界人士的關注，他們對這套創新的曝光機表示了高度的讚賞和期待。這套曝光機的優勢如下：

• 全球晶片生產首創採用LED紫外光源，相較於傳統使用的劇毒汞燈，能耗僅為1/100, 不僅節能，也減少了汞污染。

• 自研高景深長焦鏡頭配合LED光源，不但照度超越汞燈系統，還可實現GHI線快速分割及合併曝光，可大幅提升曝光品質和效率，從2吋到12吋的晶圓尺寸，雙面對準系統等，適應各種半導體製程的需求。

• 塗佈顯影、曝光、檢測三大黃光核心製程技術完全由國人主導自主研發，並將於台灣設廠生產製造，提供客製化『半導體黃光曝光生態平台』Turn-Key服務。

微影半導體的創辦人胡德立表示，這將是一種高效並且環保的新一代半導體生產設備，將為台灣半導體產業帶來巨大的競爭優勢和市場機會。期盼與更多的合作夥伴分享微影半導體的創新成果，共同推動全球半導體產業的發展。

微影半導體公司是一家專注於半導體晶片曝光設備的研發和製造的公司，成立於2023年，總部設於台灣，並在英國設有研發中心。微影半導體擁有一支由國際頂尖曝光機專家組成的技術團隊，並憑藉其自主研發的LED光源投影曝光機，為全球半導體產業提供了一種高效、環保、客製化的解決方案。微影半導體的願景是成為全球半導體設備的領導者，並為人類的科技進步和社會福祉做出貢獻。


微影發表LED光源投影曝光機
全球半導體產業迎來革命性的突破，微影半導體公司日前在台南科學園區舉行產品發表會，正式推出全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片解決方案，這套創新的曝光機，是一項高效且環保的新一代半導體生產設備，由微影半導體創辦人胡德立領導的國際團隊，在英國自主研發的成果，於今年成功通過台灣半導體客戶的驗證，並獲得預約生產訂單，可望為台灣半導體產業帶來巨大的競爭優勢。

微影半導體董事長胡德立表示，該公司自主研發的曝光機原型機已於2022年運到台灣，並成功通過台灣半導體客戶的驗證，取得驚人的成果，在獲得客戶預定的多套設備訂單後，決定今年在台灣成立微影半導體公司，並宣布將在台灣量產製造曝光機及配套的塗布顯影及檢測設備。

微影半導體發表的曝光機優勢，包括：一、首創採用LED紫外光源，不僅節能，也減少汞污染。二、可大幅提升曝光品質和效率，適應各種半導體製程的需求。三、塗布顯影、曝光、檢測三大黃光核心製程技術完全由國人主導自主研發，並將於台灣設廠生產製造，提供客製化「半導體黃光曝光生態平台」Turn-Key服務。

胡德立強調，微影半導體曝光機產品，是一項高效並且環保的新一代半導體生產設備，期盼與更多的合作夥伴分享微影半導體的創新成果，共同推動全球半導體產業的發展。微影半導體致力為全球半導體產業提供高效、環保、客製化的解決方案。

公司基本資料

統一編號	94159214   訂閱
公司狀況	核准設立  「查詢最新營業狀況請至 財政部稅務入口網 」
公司名稱	微影半導體股份有限公司  Google搜尋  (出進口廠商英文名稱：Lithography Semiconductor Equipment CO., LTD.) 「國際貿易署廠商英文名稱查詢(限經營出進口或買賣業務者)」
章程所訂外文公司名稱
資本總額(元)	200,000,000
實收資本額(元)	4,500,000
每股金額(元)	10
已發行股份總數(股)	450,000
代表人姓名	胡德立
公司所在地	新北市三重區三和路4段101之1號4樓  電子地圖
登記機關	新北市政府
核准設立日期	112年11月17日
最後核准變更日期	112年12月21日
複數表決權特別股	無
對於特定事項具否決權特別股	無
特別股股東被選為董事、監察人之禁止或限制或當選一定名額之權利      無
所營事業資料	CB01030  污染防治設備製造業 CB01010  機械設備製造業 CC01080  電子零組件製造業 CC01110  電腦及其週邊設備製造業 F113010  機械批發業 F113050  電腦及事務性機器設備批發業 F113100  污染防治設備批發業 F119010  電子材料批發業 F401010  國際貿易業 ZZ99999  除許可業務外，得經營法令非禁止或限制之業務